1、中国在光刻机制造方面是单干，荷兰阿斯麦光刻机是集中了很多发达国家的技术精华，也不是荷兰一个国家所能，所以中国能自主生产90纳米的光刻机，我认为中国很了不起了，中国加油作为中国人，感觉真的不容易，所以的高科技；1国内光刻机厂商技术积累不足虽然在研发和制造光刻机方面国内企业已经进行了多年的探索和尝试，但是国内企业的技术积累与国际厂商相比仍然存在明显差距2光刻机技术难度大研发周期长光刻机是一种高精密高技术；而对于光刻机，首先我们国家对于光刻机的技术还是很落后的，就算是国内技术含量最好恶毒光刻机也太能达到22nm，而与我们所研究出来的2nm芯片所要的光刻机根本不在一个档次了而目前我们想要研制出光刻机，并且我们国家；他自己虽然不能主动地进行思考，但是它可以根据你的指令作出正式的反应，光刻机的发展最早的时候还没有那么难，但是随着进度的不断提升，现在到了5纳米这个级别的我们根本就做不出来，国内就是说现在最先进的就是14左右的；目前为止，也只有阿斯麦一家公司，能够生产极紫外光刻机2技术难点二光学镜头主要作用是调整光路和聚焦的其中，高精密的光学镜头是光刻机的关键核心部件之一3技术难点三是曝光台的对准技术芯片的曝光不能像。
2、中国造不出芯片的原因如下1没有高端光刻机光刻机是造芯片的核心设备，芯片的性能是由光刻机的精度决定的2人才缺失国家有资金支持出国留学，但不是所有出国留学的均学有所成，有的加入了外国国籍3国外芯片技术；我们国内确实是既难买又难造高端的光刻机，包括7纳米的和5纳米的，当前就是在这最后的一个端上陷入了现实的两难处境，短期内不可能脱离，是个长期性的现实 只要成功研发出了高端的制造技术，难造就会变成易造了只要即将成功制造出高端；因为我国在光刻机这一领域上的起步比较晚，制造高端光刻机的难度更大所以目前我国最先进的光刻机也仅仅还处于7nm这一阶段，和全球顶级的光刻机相比较还有很大的差距光刻机别名为曝光机，光刻机是用来制造芯片的一款。
3、华天科技等然而，与国际领先企业相比，中国在光刻机核心技术设备性能和产能上仍存在差距因此，中国需要继续加大研发投入，提升技术水平，与国际领先企业竞争，实现光刻机自主生产，进一步推动半导体产业的发展；光刻机对精度有很高的要求，要达到这样的精度就必须犯错误因此，国家的工业水平和科技实力必须达到最高水平大量的科学家试图用正确的信息进行测试，即使测试条件到位，也找不到合适的突破点光刻机是高精尖设备，技术难度；1光刻机的技术难度在于“技术封锁”，一台顶级的光刻机关键设备来自于西方发达国家，美国的光栅德国的镜头瑞典的轴承法国的阀件等，这些顶级零件对中国是禁运的所以，ASML曾说“即便给你们全套图纸，你们也造不。
4、光刻机所要求的科技含量非常高，特别是一些零件部位需要完全依赖外国的出口，因为这些零件需要有专业的设计师和科技人员进行长时间的打磨和研发之后，才达到了光刻机零件的标准从中国目前已有的相关技术来看，想要达到此项科技；首先全球能做光刻机的也就只有荷兰的ASML中国的上海微电子日本的佳能和尼康，而且日本那两家早就江河日下但是就算中国光刻机能排第2但是离第1的ASML还是差很多年当然全球尖端技术并不是越多国家掌握越好28纳米已；那么，中国光刻机现在多少纳米中国高端光刻机什么时候能研制出来一中国光刻机现在多少纳米2018年3月，上海微电子的90nm光刻机项目通过正式验收也就是说，我们的国产光刻机目前可以做到90纳米工艺之前有网友爆料；时间不宜过长自己加油，中国加油目前国内能生产光刻机的企业有五家，最先进的是上海微电子设备有限公司，光刻机量产的芯片技术是90 nm，现在正向65 nm迈进，国外最先进的是5 nm，正向3 nm迈进中间有9步的差距按。
5、因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。
